Colonna, S., Terrasi, A., Scalese, S., Iacona, F., Raineri, V., La Via, F., et al. (2003). Thermal oxidation of As and Ge implanted Si(100). SURFACE SCIENCE, 532, 746-753 [10.1016/S0039-6028(03)00216-4].

Thermal oxidation of As and Ge implanted Si(100)

MOBILIO, Settimio
2003-01-01

2003
Colonna, S., Terrasi, A., Scalese, S., Iacona, F., Raineri, V., La Via, F., et al. (2003). Thermal oxidation of As and Ge implanted Si(100). SURFACE SCIENCE, 532, 746-753 [10.1016/S0039-6028(03)00216-4].
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11590/121935
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus 8
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? 8
social impact