Cicala, G., Capezzuto, P., Bruno, G., Rossi, M.C. (2001). Growth chemistry of SiC alloy from SiF4-CH4 plasmas. APPLIED SURFACE SCIENCE, 184, 66-69.

Growth chemistry of SiC alloy from SiF4-CH4 plasmas

ROSSI, Maria Cristina
2001-01-01

2001
Cicala, G., Capezzuto, P., Bruno, G., Rossi, M.C. (2001). Growth chemistry of SiC alloy from SiF4-CH4 plasmas. APPLIED SURFACE SCIENCE, 184, 66-69.
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11590/156721
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus 10
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
social impact