Benvenuti nell'Anagrafe della Ricerca d'Ateneo
La valutazione delle attività di ricerca che si svolgono nelle università ha assunto un'importanza rilevante sia per l'intero sistema universitario sia all'interno di ogni singolo ateneo. Roma Tre si è quindi dotata di idonei strumenti informativi in grado di supportare al meglio le azioni di monitoraggio e di valutazione delle attività di ricerca svolte nei propri dipartimentied ha realizzato una Anagrafe della Ricerca di Ateneo.
EnglishWe have studied the electrical activation of the Fe2+3+ trap in Fe-implanted InP by means of capacitance-voltage and deep level transient spectroscopy analyses. Five deep traps have been identified and we have characterized the concentration and depth distribution of the Fe2+3+ deep trap, located at EC -0.66 eV. The InP substrate background doping, i.e., the Fermi-level position, plays a crucial role in the Fe activation process by setting an upper limit to the amount of Fe centers electrically activated as deep acceptor traps. © 2005 American Institute of Physics.
Fraboni, B., Gasparotto, A., Cesca, T., Verna, A., Impellizzeri, G., & Priolo, F. (2005). Electrical activation of the Fe2+/3+ trap in Fe-implanted InP. APPLIED PHYSICS LETTERS, 87(25), 252113-1-252113-3.
| Titolo: | Electrical activation of the Fe2+/3+ trap in Fe-implanted InP |
| Autori: | |
| Data di pubblicazione: | 2005 |
| Rivista: | |
| Citazione: | Fraboni, B., Gasparotto, A., Cesca, T., Verna, A., Impellizzeri, G., & Priolo, F. (2005). Electrical activation of the Fe2+/3+ trap in Fe-implanted InP. APPLIED PHYSICS LETTERS, 87(25), 252113-1-252113-3. |
| Handle: | http://hdl.handle.net/11590/307022 |
| Appare nelle tipologie: | 1.1 Articolo in rivista |
File in questo prodotto:
http://hdl.handle.net/11590/307022
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