G., C., M., D.S., Y., B., M., P., Evangelisti, F., G., N., et al. (2010). Strain relaxation in high Ge content SiGe layers deposited on Si. JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 107, 063504.
Strain relaxation in high Ge content SiGe layers deposited on Si
EVANGELISTI, Florestano;
2010-01-01
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