We report on the fabrication and characterization of a novel near infrared phototransistor provided with a Germanium optical gate and fabricated by means of a commercially available silicon photonics foundry.
Sorianello, V., De Angelis, G., De Lacovo, A., Colace, L., Faralli, S., & Romagnoli, M. (2015). Germanium gate phototransistor fabricated on SOI platform. In IEEE International Conference on Group IV Photonics GFP (pp.19-20). IEEE Computer Society [10.1109/Group4.2015.7305933].
Titolo: | Germanium gate phototransistor fabricated on SOI platform | |
Autori: | ||
Data di pubblicazione: | 2015 | |
Rivista: | ||
Citazione: | Sorianello, V., De Angelis, G., De Lacovo, A., Colace, L., Faralli, S., & Romagnoli, M. (2015). Germanium gate phototransistor fabricated on SOI platform. In IEEE International Conference on Group IV Photonics GFP (pp.19-20). IEEE Computer Society [10.1109/Group4.2015.7305933]. | |
Handle: | http://hdl.handle.net/11590/316859 | |
ISBN: | 9781479982554 | |
Appare nelle tipologie: | 4.1 Contributo in Atti di convegno |
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